单晶圆光罩清洗机

单晶圆光罩清洗机

本设备适用于 6”、7”、9” 光罩 Mask 清洗，搭载多级精密过滤系统，满足 Class 10/100 洁净等级要求。采用离子气吹工艺，实现 360° 高精度清洗，支持主流通讯协议与自动化对接，符合 SEMI S2、CE 半导体标准。

产品特点

密封式独立清洗腔体，清洗效果更好，洁净度更高。

自动Load Port和主流E84传感器，对接OHT天车，稳定、高效。

各腔体可单独控制运行，互不干涉。

应用范围

Mask

技术参数

设备尺寸

2560mm(L)×2440mm(W)×1890mm(H)
（含脚杯+排气口高度）仅供参考

应用范围

6", 7", 9" 光罩Mask

夹具类型

边缘多点夹持Edge gripper

净重

1500Kg

主轴转速

0~1500rpm

WPH

15pcs/Chamber（6“ Mask）

主轴旋转方式

正转/反转

电源供应

三相五线AC380V 50Hz

噪音

＜75db

主要材质

机身：SUS304 管路：PFA